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真空镀膜简介

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真空镀膜简介

发布日期:2020-11-10 作者: 点击:

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等。

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法,称为真空镀膜。

真空镀膜技术一般分为两大类,即物理气相沉积PVD)技术和化学气相沉积CVD)技术。

物理气相沉积技术是指在真空条件下,利用各种物理方法,将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子,直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得,它利用某种物理过程,如物质的热蒸发,或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象,实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。物理气相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。同时,物理气相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下,因此可作为最终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。由于采用物理气相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能,人们在竞相开发高性能、高可靠性设备的同时,也对其应用领域的扩展,尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的应用进行了更加深入的研究。

化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体,借助气相作用或基体表面上的化学反应,在基体上制出金属或化合物薄膜的方法,主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。

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宁波市江北佳大真空发展技术有限公司——本厂的大型真空镀膜设备(PVD多弧离子镀膜机),能够适应多种行业和领域的产品颜色镀制生产:

1. 各类品牌鞋类、服装、黄金珠宝、名表、床上用品等方面的商场展柜、展台、试鞋镜、灯箱、LOGO等的整体镀色或拆装件生产。

2. 建筑工程方面如商品房、市政工程、星级酒店、别墅等装饰装修工程方面的结构件或装饰件如门、窗、屏风等的颜色镀制。

3. 家具、家居用品:茶几、餐桌、餐椅、家具装饰件等。

4. 各类小五金、民用品方面如项链、领带夹、钢笔、眼镜、水杯、高档电子锁、拉手等日常用品的镀色生产。

5. 其它领域还涉及汽车、卫浴、电子(手机等)、医疗器械等。

本厂主要提供如下工艺制作服务:

一、PVD镀膜:工艺颜色涵盖钛金、香槟金、玫瑰金、紫金、咖啡色、古铜色、灰色、黑色、枪色等。PVD膜层有氮化钛(TiN)、碳化钛(TiC)、氮化铬(CrN)、碳化铬(CrC)、氮化铝钛(TiAlN)、高铝钛(AlTiN)、氮碳化钛(TiCN)、氮碳化铬(CrCN)等。

二、防指纹表面处理:本厂提供的防指纹工艺,具有优异的防指纹效果,并增强产品表面的耐划伤性能,提高产品的档次。


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